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2020-03-27
“边胶”的产生及改善
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2024-01-11
湿法刻蚀-Wet Etch
2024-01-03
“边胶”的产生及改善厚胶旋涂和方形衬底匀胶时边缘会形成较厚的光刻胶胶边即边胶,边胶是硅片边缘形成的厚度不均匀的胶层,不仅影响晶圆的外观还对接触式光刻工艺产生影响,光刻、显影等过程产生缺陷,芯片性能降低:由于边缘光刻胶的溶剂残留量高,即使在前烘后,掩膜板也会粘附【详细】
中国“匀胶显影机”行业市场前景分析预测报告
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2024-07-29
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2024-07-26
从匀胶到软烘,光刻胶中的溶剂是在不断减少的,那么请问溶剂是如何变化的,涉及到哪些原理?
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2024-03-27
高精度狭缝式涂布机是在不同刚性或柔性基材上制备涂布工艺的理想选择。