欢迎您来到爱姆加电子设备有限公司官网,我们将竭诚为您服务

服务电话:+86-15891750928

爱姆加logo
爱姆加电子设备
匀胶显影蚀刻专用设备生产商



诚信创新
精工
专注
专注成就品质,品质塑造未来!
Focus on the achievement of quality, quality to shape the future!
新闻中心
匀胶时光刻胶的溶剂是如何变化的?
从匀胶到软烘,光刻胶中的溶剂是在不断减少的,那么请问溶剂是如何变化的,涉及到哪些原理?
来源: | 作者:pmoe2a7d5 | 发布时间: 2024-07-26 | 7074 次浏览 | 分享到:

光刻胶中的溶剂的种类及作用?

丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA),乙二醇甲醚醋酸酯(EGMEA),1-甲氧基-2-丙酯等。溶剂的作用是溶解光刻胶中的聚合物、感光剂和其他添加剂。使光刻胶形成均匀的液相状态。其次是可以调节光刻胶的粘度。

光刻胶溶剂如何变化?
在旋转涂胶前,光刻胶通常包含65%到85%的溶剂。旋转胶后,溶剂减少到10%到20%,但是胶膜仍处于半液半固体状态。软烘后溶剂的理想量约为4%到7%。由于溶剂在软烘过程中减少,光刻胶膜的厚度也在不断减薄。

光刻胶溶剂为什么会变少?
旋涂过程中,会在晶圆表面和周围产生空气流动,形成层流或湍流。溶剂会不断挥发,导致溶剂量减少。离心力旋涂过程中,由于晶圆的高速旋转,离心力将光刻胶甩向晶圆边缘,同时多余的溶剂被甩出,导致溶剂量减少。

烘烤中溶剂的变化?
加热过程中,光刻胶层中的溶剂吸收热能,其分子运动加剧,蒸汽压升高。当蒸汽压超过大气压时,溶剂分子从液态转变为气态并蒸发。