欢迎您来到爱姆加电子设备有限公司官网,我们将竭诚为您服务

服务电话:+86-15891750928

爱姆加logo
爱姆加电子设备
匀胶显影蚀刻专用设备生产商



诚信创新
精工
专注
专注成就品质,品质塑造未来!
Focus on the achievement of quality, quality to shape the future!
新闻中心
湿法刻蚀-Wet Etch
刻蚀是整个IC制造中的工艺,是与光刻胶相联系进行图像化处理的一种技术,刻蚀过程需要控制刻蚀偏差,分为湿法刻蚀和干法刻蚀。文章介绍湿法知识。#半导体#光刻机#光刻胶#刻蚀机
来源: | 作者:pmoe2a7d5 | 发布时间: 2024-01-03 | 1065 次浏览 | 分享到:

湿法腐蚀机

按照刻蚀方式和所使用的物质不同,刻蚀可以分为干法刻蚀和湿法刻蚀两类。

湿法刻蚀: (Wet Etch)是一个纯粹的化学反应过程,是指将待刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术。

优点:设备简单、重复性好、成本低、刻蚀速度快、生产效率高;

缺点:具有各向同向,横向刻蚀的宽度接近垂直刻蚀的深度,光刻胶下面会有刻蚀液的渗入,导致钻刻严重,对图形的控制性较差,不能用于小的特征尺寸,很难处理非常精细的电路图:会产生大量的化学废液;

因为湿法刻蚀存在不容忽视的刻蚀偏差,所以一般用于晶圆磨片、抛光、清洗等环节。